一种实现自动翻面的行星样品台
基本信息
| 申请号 | CN202022036259.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212505052U | 公开（公告）日 | 2021-02-09 |
| 申请公布号 | CN212505052U | 申请公布日 | 2021-02-09 |
| 分类号 | C23C14/50(2006.01)I; | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 金炯;杨林;王福清 | 申请（专利权）人 | 浙江赛威科光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京沁优知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王丽君 |
| 地址 | 313000浙江省湖州市德清县雷甸镇白云南路866号9号楼D101室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域，公开了一种实现自动翻面的行星样品台，其技术方案要点是包括支架，支架内设置有加热区域，加热区域包括中心转轴和若干个加热部，中心转轴两端分别开设有U型槽，将基片放置在加热部上，通过加热盘对基片进行加热，并且通过第一升降组件可以调整加热区域与加热盘之间的距离，进而控制加热温度，通过第二升降组件带动旋转轴的上下移动，使得U型块与U型槽相嵌或脱离，在旋转组件的带动下，使得中心转轴的转动，无需将电机设置在加热区域，即可实现加热部的周向移动，并且通过翻转机构，可以实现加热区域的翻转，使得对基片的加热更加的均匀，又避免了对于基片双面镀膜情况下，需要停止镀膜的问题。 |
