一种反应室环绕式石英槽壁粗糙度控制的装置
基本信息
| 申请号 | CN202021612105.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212713745U | 公开（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申请公布号 | CN212713745U | 申请公布日 | 2021-03-16 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘烨 | 申请（专利权）人 | 陕西宇腾电子科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 710000陕西省西安市雁塔区长安南路农林壹号小区1号楼1单元1902 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种反应室环绕式石英槽壁粗糙度控制的装置，包括石英盖板，所述石英盖板的一侧开设有第一弧形口，所述石英盖板的另一侧开设有第二弧形口，所述石英盖板上开设有定位孔。本实用新型通过设有的石英盖板使得残余沉积物会不会容易剥落下来，减少落在待处理的基板上，减少基板表面缺陷，从而提高半导体的电学性能，同时还可以进行石英槽壁粗糙度控制，将石英槽壁的粗糙度控制在控制4～8(RA值)。 |
