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抛光机的下抛光盘

基本信息

申请号 CN201020515303.4 申请日 -
公开（公告）号 CN201824259U 公开（公告）日 2011-05-11
申请公布号 CN201824259U 申请公布日 2011-05-11
分类号 B24D13/18(2006.01)I 分类 磨削；抛光;
发明人 金万斌;李方俊;梁春 申请（专利权）人 兰州瑞德设备制造有限公司
代理机构 兰州振华专利代理有限责任公司 代理人 兰州瑞德实业集团有限公司;兰州瑞德设备制造有限公司
地址 730000 甘肃省兰州市城关区东岗西路705号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及硅片研磨机或抛光机的结构，尤其涉及硅片研磨机或抛光机下抛光盘的结构。一种抛光机的下抛光盘，包括有下盘工作盘(7)，其主要特点在于还包括有在下盘工作盘(7)的下方设有下盘基盘(9)，下盘基盘(9)与下盘工作盘(7)之间形成冷却腔(3)，在下盘基盘(9)上设有进水口(8)和出水口(5)，分别与冷却腔(3)连通。本实用新型的优点是特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。