半导体显示衬底的化学清洗设备
基本信息
| 申请号 | CN202020348017.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211965189U | 公开（公告）日 | 2020-11-20 |
| 申请公布号 | CN211965189U | 申请公布日 | 2020-11-20 |
| 分类号 | B08B3/10(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 陆雄;王文彬;魏航;陶金;周文 | 申请（专利权）人 | 重庆芯洁科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京中政联科专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 韩璐 |
| 地址 | 400000重庆市九龙坡区西彭镇西彭园区D40标准厂房5号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于半导体衬底技术领域，提供了一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽、清洗治具和驱动机构，清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架和多个放置结构，驱动机构用于驱动清洗治具作上下往复直线运动。本实用新型所提供的半导体显示衬底的化学清洗设备，清洗效率较高。 |
