用于半导体显示衬底的超声波清洗设备
基本信息
| 申请号 | CN202020347159.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211938193U | 公开（公告）日 | 2020-11-17 |
| 申请公布号 | CN211938193U | 申请公布日 | 2020-11-17 |
| 分类号 | B08B3/12(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 陆雄;王文彬;魏航;陶金;周文 | 申请（专利权）人 | 重庆芯洁科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京中政联科专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 韩璐 |
| 地址 | 400000重庆市九龙坡区西彭镇西彭园区D40标准厂房5号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于半导体显示衬底清洗设备技术领域，提供了一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽、超声波发生装置、清洗治具和驱动机构，超声波发生装置设置在清洗槽内，清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架、两个支撑板和锁定结构，两个支撑板分别设置在安装框架内侧的两端、并与安装框架滑动连接，且两个支撑板的相对的一侧分别设置有相互配合的V形槽，锁定结构用于锁定两个支撑板的位置，驱动机构用于驱动清洗治具做上下往复直线运动。本实用新型所提供的用于半导体显示衬底的超声波清洗设备清洗效率高。 |
