一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN202111443067.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114101208A | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申请公布号 | CN114101208A | 申请公布日 | 2022-03-01 |
| 分类号 | B08B3/12（2006.01）I;B08B3/14（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;F16F15/067（2006.01）I;F26B21/00（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 魏航;周文;刘勇勋;王文彬;杨佐东 | 申请（专利权）人 | 重庆芯洁科技有限公司 |
| 代理机构 | 重庆乐泰知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 雷钞 |
| 地址 | 401326重庆市九龙坡区西彭镇西彭园区D40标准厂房5号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，涉及超声波清洗设备技术领域，包括外箱、超声波清洗内箱、减震机构、水循环机构、左固定机构和右活动机构，所述外箱内设有上腔和下腔，所述减震机构安装在上腔内，所述水循环机构安装在下腔内且与超声波清洗内箱相连通，所述超声波清洗内箱内设有定位杆和传动杆，所述超声波清洗内箱的内底部设有联动机构，所述联动机构与左固定机构和右活动机构传动连接，所述超声波清洗内箱内还设有控制电机，所述外箱的顶部设有转动门，该转动门内设有烘干风机。本发明能够满足不同大小的陶瓷基板放置定位步骤，便于后续其清洗作业，实用性较强，并且实现清洗水的循环，减少资源的浪费，提高了清洗效果。 |
