金属掩膜板
基本信息
| 申请号 | CN202022456921.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213924981U | 公开（公告）日 | 2021-08-10 |
| 申请公布号 | CN213924981U | 申请公布日 | 2021-08-10 |
| 分类号 | C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 周磊;窦沛静;张竞中 | 申请（专利权）人 | 珠海和泽科技有限公司 |
| 代理机构 | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张龙哺 |
| 地址 | 519045广东省珠海市金湾区联港工业区双林片区虹辉5路7号厂房3栋第一层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种金属掩膜板，包括中部镂空的掩膜板体，所述掩膜板体的上表面设置有若干凸部。真空镀膜机为基体镀膜前，先将掩膜板体设置在真空镀膜机上靠近待镀基体的区域，从而将该区域遮住并使得基体放置于掩膜板体镂空的中部；真空镀膜机为产品镀膜时，镀料的原子部分被电离成离子，离子沉积于基体表面形成薄膜。镀膜过程中，多余的离子会沉积在掩膜板体上，而由于掩膜板体的上表面设置有若干凸部，所以掩膜板体的上表面的粗糙度足够大，能够有效实现沉膜功能。因此，根据本实用新型实施例的金属掩膜板，能够吸收镀膜过程中多余的离子，对真空镀膜机起到了很好的保护作用。 |
