高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备及利用其实现基材蒸镀锂的方法
基本信息
| 申请号 | CN201710438908.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107177820B | 公开（公告）日 | 2019-05-24 |
| 申请公布号 | CN107177820B | 申请公布日 | 2019-05-24 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I; C23C14/14（2006.01）I; C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 宋殿权; 张春涛; 管云飞 | 申请（专利权）人 | 哈尔滨光宇电源股份有限公司 |
| 代理机构 | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人 | 哈尔滨光宇电源股份有限公司 |
| 地址 | 150078 黑龙江省哈尔滨市道里区开发区迎宾路集中区太湖南路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备及利用其实现基材蒸镀锂的方法，它涉及一种基材蒸镀锂设备及利用其实现基材蒸镀锂的方法。本发明的目的是要解决现有基材蒸镀锂设备对金属锂的利用率低，蒸镀厚度为≤1μm，蒸镀时污染范围大的问题。高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备包括机体外壳、腔体挡板、放卷系统、基材加热器、主辊、冷却辊、收卷系统、坩埚、坩埚固定架、坩埚加热器、保温层、坩埚横移升降平台、放卷过渡辊、加热过渡辊、冷却过渡辊、上腔真空阀门、下腔真空阀门和加料可视窗口；方法：保证蒸镀厚度范围1μm～100μm之间可随时调整，金属锂最高利用率可达到90％以上。本发明主要用于基材蒸镀锂。 |
