一种用于垂直流动式反应室的ALD装置
基本信息
| 申请号 | CN201822071709.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209162189U | 公开（公告）日 | 2019-07-26 |
| 申请公布号 | CN209162189U | 申请公布日 | 2019-07-26 |
| 分类号 | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/52 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 左雪芹;陆雪强;潘晓霞 | 申请（专利权）人 | 中国农业银行股份有限公司无锡科技支行 |
| 代理机构 | 无锡市才标专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张天翔 |
| 地址 | 214000 江苏省无锡市新吴区菱湖大道228号天安智慧城3-104 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，包括反应室、前驱体源输送系统、真空系统、臭氧发生器、控制系统、反应室外壁、前驱体源入口、抽气匀气装置、样品进入口、匀气喷淋装置、真空系统接口和样品台，所述控制系统的内部设置有真空系统，控制系统的下方设置有臭氧发生器，本实用新型一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，样品台同时具有加热功能，样品台尺寸不同规格，增加多样性，通过匀气喷淋装置匀气后吸附在样品表面，在垂直流动式反应室的底部增加抽气匀气装置，防止气流迅速的从中间抽走，可提高薄膜的均匀性，对于非理想的ALD过程并不敏感，且反应室比较横向流动式要大，可以生长一些尺度大的三维样品。 |
