一种新型纳米射流曝气装置
基本信息
| 申请号 | CN201920078699.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209567865U | 公开（公告）日 | 2019-11-01 |
| 申请公布号 | CN209567865U | 申请公布日 | 2019-11-01 |
| 分类号 | C02F3/02（2006.01）I; C02F3/12（2006.01）I; C02F7/00（2006.01）I; C02F1/78（2006.01）I; C02F1/74（2006.01）I; C02F1/72（2006.01）I | 分类 | 水、废水、污水或污泥的处理; |
| 发明人 | 张锡辉; 范小江; 刘楚 | 申请（专利权）人 | 深圳市华远环境科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳新创友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 清华大学深圳研究生院; 深圳市华远环境科技有限公司; 张家港市华远环境科技有限公司 |
| 地址 | 518055 广东省深圳市南山区西丽大学城清华校区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提出一种新型纳米射流曝气装置，包括壳体、进气系统、进水系统；进气系统包括进气管及纳米曝气头，用于形成高速微米气泡流，进气管与壳体相连通，纳米曝气头位于壳体的内部；进水系统与壳体相连通，并且依靠高速微米气泡流实现自吸式进水；壳体内部在水流方向上依次还包括：旋转体、气液混合室、扩散管及喷水孔；旋转体在高速微米气泡流的冲击带动下进行旋转运动，并且对进入其内部的气泡流进行高速旋转和剪切，以形成纳米级气泡。本实用新型的新型纳米射流曝气装置，能产生纳米级别的气泡，并且气泡分布均匀，上浮平均速度小，有助于延长气泡滞留时间或加强扰动，提高气体传质的效果。 |
