一种高比容电容负极箔及其制备的镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201610256319.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105761939A | 公开（公告）日 | 2016-07-13 |
| 申请公布号 | CN105761939A | 申请公布日 | 2016-07-13 |
| 分类号 | H01G9/042(2006.01)I;H01G9/045(2006.01)I;H01G9/048(2006.01)I;H01G13/00(2013.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 关秉羽 | 申请（专利权）人 | 辽宁鑫金铂科技有限公司 |
| 代理机构 | 铁岭天工专利商标事务所 | 代理人 | 王化斌 |
| 地址 | 112600 辽宁省铁岭市铁岭县工业园区懿路工业园区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种高比容电容负极箔，具有铝箔，所述铝箔的表面溅射有氮化钛层，氮化钛层的表面溅射有氮化钛和石墨的混合层。本发明的高比容电容负极箔，实验测试表明：氮化钛层与铝箔表面结合牢固，氮化钛和石墨的混合层与氮化钛层结合牢固，在作为负极箔时，同比电容量达到铝箔的数倍、高于碳箔，具有比铝箔更低的阻抗和损耗，尤其适合制作固态电容器和大容量电解电容器，具有体积小、寿命长、热稳定性好的特点。本发明同时还公开了制备该高比容电容负极箔的镀膜装置，主要包括真空放卷室、第一真空镀膜室、第二真空镀膜室和真空收卷室，本镀膜装置从放卷到收卷可以实现连续镀膜，镀膜速度快、生产效率高。 |
