密闭式电化学抛光系统
基本信息
| 申请号 | CN201120454840.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN202323096U | 公开（公告）日 | 2012-07-11 |
| 申请公布号 | CN202323096U | 申请公布日 | 2012-07-11 |
| 分类号 | C25F3/16(2006.01)I;C25F7/00(2006.01)I | 分类 | 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕; |
| 发明人 | 吕春林 | 申请（专利权）人 | 深圳市和科达电镀设备有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 | 代理人 | 郭伟刚 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市龙华镇大浪华旺路和科达工业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种密闭式电化学抛光系统，包括至少一电解槽(1)、副槽(2)以及配液槽(5)，通过循环机构分别连接于电解槽(1)和副槽(2)使其相互连通，副槽(2)与配液槽(5)之间设置有使其互相连通的循环机构；电解槽(1)密封于一壳体(6)内，壳体(6)顶端设有抽风罩(61)，副槽(2)设有将其密封的槽盖(21)，配液槽(5)设有将其密封的盖体(51)；壳体(6)一侧壁嵌设一钢化玻璃门(62)以及设于壳体(6)内引导钢化玻璃门(62)升降的导轨(63)。本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统有效降低了车间的噪音强度，且能够及时将电解过程中产生的有害气体和异味及时抽出处理，避免了有害物质危害人体健康。 |
