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一种还原炉

基本信息

申请号 CN202111458829.2 申请日 -
公开（公告）号 CN113912065A 公开（公告）日 2022-01-11
申请公布号 CN113912065A 申请公布日 2022-01-11
分类号 C01B33/035（2006.01）I 分类 无机化学;
发明人 何隆;孙运德;李东东;梁建龙;刘兴平 申请（专利权）人 内蒙古新特硅材料有限公司
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人 李红标
地址 014199内蒙古自治区包头市土默特右旗新型工业园区
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种还原炉，包括：炉体，炉体的底部具有底盘，底盘为圆形；底盘的中心设有喷嘴，底盘上具有多个第一环形区域和多个第二环形区域，相邻两个第一环形区域之间具有第二环形区域，多个电极孔沿第一环形区域的周向间隔分布；多个喷嘴沿第二环形区域的周向间隔分布，第一环形区域与第二环形区域均位于第三环形区域的内部，多个排气孔沿第三环形区域的周向间隔分布。通过在不同的环形区域设置喷嘴、电极孔及排气孔，使得还原炉中的气场以及温度场更加均匀，防止运行中出现“雾化”现象。