一种提升光学薄膜沉积精度的方法
基本信息
| 申请号 | CN202111123009.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113881926B | 公开（公告）日 | 2022-06-28 |
| 申请公布号 | CN113881926B | 申请公布日 | 2022-06-28 |
| 分类号 | C23C14/54（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;G06F17/10（2006.01）I;G06F30/20（2020.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王胭脂;张宇晖;贺洪波;王志皓;陈昌;朱晔新;邵宇川;易葵;邵建达 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 代理机构 | 上海恒慧知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 201800上海市嘉定区清河路390号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种提升光学薄膜沉积精度的方法，包括以下步骤：1）选取敏感度最低的膜层结构进行制备；2）镀膜；3）通过光性反演技术得到膜层结构在实际制备过程中存在的偏差；4）考虑膜层制备偏差后，重新修改设计膜层厚度，并进行第二次镀膜；5）制备得到光性曲线与设计光性高度吻合的薄膜。本发明通过选择低敏感度膜层结构、光性反演、厚度误差修正，提高光学薄膜在制备过程中的准确性和稳定性，得到沉积精度更高的光学薄膜元件。 |
