一种抛光垫
基本信息
| 申请号 | CN202120177695.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214322989U | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN214322989U | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | B24B37/26（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 黄学良;蔡长益;罗乙杰;桂辉辉;刘敏;杨佳佳;邱瑞英;张季平 | 申请（专利权）人 | 湖北鼎汇微电子材料有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 430057 湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号411号房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种抛光垫，包括抛光层，所述抛光层包括抛光表面和位于抛光表面上的抛光单元，所述抛光单元至少为一个，抛光单元组成抛光单元群，抛光单元群的一端形成接触表面，接触表面与被研磨材料直接接触，每个抛光单元在接触表面投影为平行四边形；多个抛光单元分别组成第一部分和第二部分，第一部分沿第一方向延伸并均匀间隔，第二部分沿与第一方向平行的方向延伸并均匀间隔；并且，抛光单元的接触表面的面上具有通道，且包括第一通道和第二通道；本实用新型抛光垫的结构与限定的抛光单元面积比，有效面积比、有效通道体积比以及有效通道的宽度比等参数相结合时，具有优异的综合性能。 |
