一种抛光垫
基本信息
| 申请号 | CN202023289410.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214519539U | 公开（公告）日 | 2021-10-29 |
| 申请公布号 | CN214519539U | 申请公布日 | 2021-10-29 |
| 分类号 | B24B37/26（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 刘敏;王腾;邱瑞英;黄学良;杨佳佳;张季平 | 申请（专利权）人 | 湖北鼎汇微电子材料有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 430057湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种抛光垫，包括研磨层，研磨层与直径为Dw的被研磨材料直接接触，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边缘三个研磨区的宽度依次为W1,W2,W3，其中第二研磨区宽度W2满足：W2＝0.8Dw‑0.995Dw；本实用新型通过对抛光垫的不同研磨区及其沟槽的相关参数进行综合设计，使得本实用新型的抛光垫具有优异的综合性能。 |
