一种单晶片抛光用抛光垫
基本信息
| 申请号 | CN202121721977.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215547806U | 公开（公告）日 | 2022-01-18 |
| 申请公布号 | CN215547806U | 申请公布日 | 2022-01-18 |
| 分类号 | B24B37/26（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 张泽芳 | 申请（专利权）人 | 徐州永泽新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 江苏长德知识产权代理有限公司 | 代理人 | 陈飞 |
| 地址 | 221300江苏省徐州市邳州市经济技术开发区环城北路非晶城产业园12幢3层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种单晶片抛光用抛光垫，涉及单晶片加工技术领域，其技术方案要点是包括抛光层，抛光层的一侧开设有呈放射状分布的凹槽，凹槽远离抛光层中心的一侧贯穿抛光层，抛光层靠近凹槽所在的一侧喷涂有磨砂层，且磨砂层位于相邻两个凹槽所围成的区域内，效果是通过设置磨砂层，利用磨砂层对物体表面进行抛光处理，这样每次磨损的只是磨砂层，每次只需补喷磨砂颗粒即可，大大提高抛光垫的使用寿命。 |
