一种用于微纳米粉体镀膜的连续生产设备及其制备方法
基本信息
申请号 | CN201511020346.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN106929809A | 公开(公告)日 | 2017-07-07 |
申请公布号 | CN106929809A | 申请公布日 | 2017-07-07 |
分类号 | C23C14/35;C23C14/56 | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 唐晓峰;逯琪;董建廷 | 申请(专利权)人 | 上海朗亿新材料科技有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 201699上海市松江区永航路188弄1号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种用于微纳米粉体镀膜的连续生产设备及其制备方法,该设备包括储料仓(1)、连续下料装置(2)、传输系统(3)、磁控溅射装置(4)、真空腔体(5)、收料仓(6)、抽气系统(7)和进气系统(8)。通过该设备对微纳米粉体镀膜能够实现工艺多样性变化及产品镀层稳定性。 |
