一种用于微纳米粉体磁控溅射连续镀膜的振动输送样品台
基本信息
| 申请号 | CN201621013987.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205974651U | 公开（公告）日 | 2017-02-22 |
| 申请公布号 | CN205974651U | 申请公布日 | 2017-02-22 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 唐晓峰;逯琪;董建廷;张文彬;雷芝红 | 申请（专利权）人 | 上海朗亿新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201699 上海市松江区永航路188弄1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本专利涉及一种用于微纳米粉体磁控溅射连续镀膜的振动输送样品台，该振动输送样品台包含振动输送面、缓冲弹簧、固定支架、振动角度调节架、振动电机五个部分，所述振动电机与振动角度调节架连接，振动角度调节架安装于振动输送面下方，与振动输送面之间的夹角为0～90°，实现粉体的均匀镀膜。该微纳米粉体磁控溅射连续镀膜设备有且只有一台安装于振动输送样品台的振动电机，有效减少真空腔体内电机数量，降低设备维护难度，提高设备的运行可靠性及产品品质的稳定性，同时也避免了增加动密封带来的真空设备漏气等问题。 |
