一种干式刻蚀设备的刻蚀底盘
基本信息
| 申请号 | CN201620502802.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205944030U | 公开（公告）日 | 2017-02-08 |
| 申请公布号 | CN205944030U | 申请公布日 | 2017-02-08 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 竺平军 | 申请（专利权）人 | 浙江优众新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 汤东凤 |
| 地址 | 316000 浙江省舟山市定海区岑港街道坞坵社区丰园路15号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种干式刻蚀设备的刻蚀底盘，属于干式刻蚀设备技术领域，包括移动块、直线电机、控制器、工作台、气缸、第一台板、滑块、滑轨、第二台板、支块、圆盘、气体喷射盘和气体喷射孔，所述工作台上安装第一台板，第一台板内左右两侧各安装气缸，气缸的活塞杆伸出第一台板外，气缸的活塞杆上安装第二台板，第二台板安装在滑块上，滑块安装在滑轨上，滑轨安装在工作台上，第一台板和第二台板上各安装圆盘；本实用新型的优点是：能调节气体喷射盘的高度，且能使晶片的周边都能均匀的与气体喷射孔相互对应。 |
