光刻对准方法以及晶圆
基本信息
| 申请号 | CN201410285012.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104078405A | 公开（公告）日 | 2014-10-01 |
| 申请公布号 | CN104078405A | 申请公布日 | 2014-10-01 |
| 分类号 | H01L21/68(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 杨海波;李忠平 | 申请（专利权）人 | 上海天英微系统科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海翼胜专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | 上海天英微系统科技有限公司 |
| 地址 | 200120 上海市浦东新区郭守敬路351号2号楼A635-15室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种光刻对准方法以及一种晶圆。所述方法包括如下步骤：提供第一晶圆，所述第一晶圆的表面包括至少一第一对准标记，所述第一对准标记设置在第一晶圆外缘的一圆周区域内；将所述第一晶圆同一第二晶圆键合，所述第二晶圆覆盖第一晶圆表面的第一对准标记；去除第二晶圆外缘的一圆周区域，以露出第一晶圆表面的第一对准标记；以第一对准标记作为基准，在第二晶圆的暴露表面形成第二对准标记，所述第二对准标记将用于后续工艺的对准。本发明的优点在于节约了背面光刻版及双面抛光片的成本。 |
