匀胶系统
基本信息
| 申请号 | CN202210262041.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114721224A | 公开（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申请公布号 | CN114721224A | 申请公布日 | 2022-07-08 |
| 分类号 | G03F7/16（2006.01）I;G03F7/42（2006.01）I;G02B27/34（2006.01）I;G02B27/36（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 冯季村;吕学良;张洋;周游;李开宇;李自金;李庆;周东站;王乔;郑京明;沈帆帆;蒲文轩 | 申请（专利权）人 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 |
| 代理机构 | 北京鼎佳达知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 100024北京市朝阳区管庄东里1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请提供一种匀胶系统，涉及光刻工艺技术领域。其中，该匀胶系统包括：光源、投影卡具和底座；所述光源用于投射光线；所述投影卡具位于所述光源的下方；所述底座位于所述投影卡具的正下方，用于固定并以中心直线为轴线旋转所述基片；所述光源照射所述投影卡具后的投影映在所述底座的上表面，且所述投影的轮廓的形状和大小分别对应于所述基片，用于所述基片的定位；其中，所述中心直线穿过所述底座的中心并与所述底座的上表面垂直。本申请技术方案可以实现基片的无接触且快速对中操作，能够解决基片对中时需要使用夹具，容易划伤基片的技术问题。 |
