混合线条的制造方法

基本信息

申请号 CN201110261526.1 申请日 -
公开(公告)号 CN102983066B 公开(公告)日 2015-06-17
申请公布号 CN102983066B 申请公布日 2015-06-17
分类号 H01L21/027(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 唐波;闫江 申请(专利权)人 中禾飞阳科技有限公司
代理机构 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 中国科学院微电子研究所;中科飞阳科技有限公司
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3#
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种混合线条的制造方法,包括以下步骤:A、在底层上依次形成材料层和第一硬掩模层;B、对第一硬掩模层光刻/刻蚀形成第一硬掩模图形;C、在材料层和第一硬掩模图形上形成第二硬掩模层;D、对第二硬掩模层光刻/刻蚀形成第二硬掩模图形;E、以第一和第二硬掩模图形为掩模,刻蚀材料层,形成第一线条和第二线条。依照本发明的混合线条制造方法,将同一层次图形按线条大小进行拆分,大线条用普通光学曝光,小线条用电子束曝光,旨在不影响图形质量的前提下大幅缩减曝光时间。同时采用2次硬掩膜方法有效的解决了I线光刻胶和电子束光刻胶相互影响的问题。