电磁屏蔽构件的制备方法和电磁屏蔽构件

基本信息

申请号 CN202110933970.7 申请日 -
公开(公告)号 CN113825376A 公开(公告)日 2021-12-21
申请公布号 CN113825376A 申请公布日 2021-12-21
分类号 H05K9/00(2006.01)I 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 苏伟;胡守荣;韦士彩;叶宗和 申请(专利权)人 深圳市志凌伟业光电有限公司
代理机构 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 代理人 陈小娟
地址 518000广东省深圳市龙华区观澜街道大富社区大富工业区11号鹏龙蟠高科技园B栋厂房301、401
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开一种电磁屏蔽构件的制备方法和电磁屏蔽构件,其中电磁屏蔽构件的制备方法包括以下步骤:提供可透光的基板;以及在所述基板上形成有呈网格状的第一屏蔽模块;其中,所述第一屏蔽模块包括第一接着层、第一导电层和第一吸光层,所述第一接着层层叠于所述基板,所述第一导电层层叠于所述第一接着层的背离所述基板的一侧,所述第一吸光层设置于所述第一导电层,所述第一接着层可透光,所述第一屏蔽模块的第一网孔至少贯穿所述第一导电层和所述第一吸光层。本发明的技术方案旨在制造出具有透光性的电磁屏蔽构件。