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一种应用于干式刻蚀工艺的上部电极等离子熔射方法

基本信息

申请号 CN202011368454.6 申请日 -
公开（公告）号 CN112490106B 公开（公告）日 2021-07-30
申请公布号 CN112490106B 申请公布日 2021-07-30
分类号 H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分类 基本电气元件;
发明人 权太植 申请（专利权）人 合肥微睿科技股份有限公司
代理机构 北京众达德权知识产权代理有限公司 代理人 刘杰
地址 230000安徽省合肥市新站区九顶山路以东、珠城路以南
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种应用于干式刻蚀工艺的上部电极等离子熔射方法，具体包括：S1.遮蔽：采用不锈钢板对上部电极进行遮蔽，遮蔽非熔射面，露出熔射面；S2.喷砂：对熔射面进行喷砂处理；S3.等离子喷涂：对熔射面进行等离子喷涂；S4.去除遮蔽：去除上部电极上遮蔽的不锈钢板；S5.一次清洗：采用干冰清洗方式清洗上部电极的表面；S6.检查：检查熔射涂层的外观和尺寸；S7.二次清洗：采用高压清洗方式清洗上部电极上的电极孔；S8.干燥：对上部电极进行烘干。本发明能够获得所需厚度的熔射涂层，提高了上部电极的脆弱部位的绝缘性及耐腐蚀性，且能够降低在使用端上线时形成电弧与击穿的发生率，延长了上部电极的使用寿命。