电极、干蚀刻设备和制造电极的方法
基本信息
申请号 | CN202110984975.2 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113436956A | 公开(公告)日 | 2021-09-24 |
申请公布号 | CN113436956A | 申请公布日 | 2021-09-24 |
分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 蔡广云;黄来国;权太植;金珉成;陶源;顾为飞 | 申请(专利权)人 | 合肥微睿科技股份有限公司 |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 王茂华 |
地址 | 430073湖北省武汉市东湖新技术开发区东信路SBI创业街3栋2单元5层03号(自贸区武汉片区) | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本申请涉及一种电极、干蚀刻设备和制造电极的方法。电极包括:铝基板(12),包括反应性气体的入口侧表面(13)和与入口侧表面(13)相对的反应性气体的出口侧表面(15),其中铝基板(12)还包括从入口侧表面延伸至出口侧表面(15)的多个均匀分布的贯通孔,贯通孔包括进气通道和与进气通道连通的安装孔(17);以及多个嵌入体,每个嵌入体(14)由陶瓷制成并且从出口侧表面(15)被嵌入安装至安装孔,其中每个嵌入体(14)包括出气通道,出气通道与进气通道连通以使得来自入口侧表面的反应性气体进入进气通道并且通过出气通道而离开出口侧表面。根据本申请的电极能够显著提高电极的耐久性进而提高使用寿命。 |
