一种氮化硼气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202023121948.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213925008U | 公开（公告）日 | 2021-08-10 |
| 申请公布号 | CN213925008U | 申请公布日 | 2021-08-10 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/34（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 胡祥龙;周岳兵;戴煜;胡高健;王艳艳 | 申请（专利权）人 | 湖南中科顶立技术创新研究院有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘奕 |
| 地址 | 410118湖南省长沙市天心区暮云工业园顶立科技研发楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及到一种氮化硼气相沉积设备，包括壳体，以及相互独立的第一导气管和第二导气管，所述第一导气管和所述第二导气管均与所述壳体的内腔相通；所述第一导气管用于传输BCl3气体，所述第二导气管用于传输NH3气体，所述第一导气管的外壁缠绕有加热带。该设备设计合理，能够有效维持氮化硼沉积过程中反应气体输送的稳定性，确保工件表面氮化硼的沉积质量，使工件的气相沉积生产工艺过程更加稳定可靠。 |
