一种应用于高频高速电解铜箔的表面粗化方法
基本信息
申请号 | CN201911193415.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN110952119B | 公开(公告)日 | 2021-07-30 |
申请公布号 | CN110952119B | 申请公布日 | 2021-07-30 |
分类号 | C25D5/10(2006.01)I;C25D5/16(2006.01)I;C25D3/38(2006.01)I;C25D7/06(2006.01)I | 分类 | 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕; |
发明人 | 张华;石新友;范远朋 | 申请(专利权)人 | 九江德福科技股份有限公司 |
代理机构 | 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 王珂 |
地址 | 332000江西省九江市开发区汽车工业园顺意路15号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种应用于高频高速电解铜箔的表面粗化方法,包括以下步骤,将无氧铜杆、稀硫酸在萝茨风机送氧与加热的条件下,发生化学反应,制成粗化电解液原液;将得到的粗化电解液原液,分别配制出二种浓度的粗化液:粗化I液:Cu2:12‑14g/L,H4SO2:130‑140g/L,温度为25‑27℃;粗化II液:Cu4:18‑20g/L,HSO2:120‑130g/L,温度为30‑33℃;将铜箔放入电镀槽,作电镀粗化准备;将粗化I液倒入电镀槽,然后对铜箔进行电镀;对电镀后的铜箔进行水洗,洗净铜箔表面残存的粗化I液;将粗化II液倒入电镀槽,然后对水洗后的铜箔再次进行电镀。本发明的有益效果:通过对粗化液的设置,并采用二级电镀粗化的方法,减小铜箔表面能,降低粗化峰值,降低传输信号损耗,提高结合力,使生产的铜箔品质更高。 |
