真空镀膜腔室和真空镀膜设备
基本信息
申请号 | CN202122489769.2 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN216006008U | 公开(公告)日 | 2022-03-11 |
申请公布号 | CN216006008U | 申请公布日 | 2022-03-11 |
分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 左国军;梁建军;朱海剑;杨虎 | 申请(专利权)人 | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
代理机构 | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 尚志峰;王淑梅 |
地址 | 213133江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供了一种真空镀膜腔室和一种真空镀膜设备,其中,真空镀膜腔室,包括:腔体;至少两个子载板,位于腔体内,子载板用于承载工件,至少两个子载板并排排列,相邻的子载板之间具有空隙。通过在真空镀膜腔室中设置至少两个子载板,并通过子载板对工件进行运输,一方面避免了通过一个整体载板运输而产生的载板过大的问题,减小了子载板的尺寸,提高了子载板的强度,另一方面一块子载板可同时运输多个工件,提高了运输效率,减少了用于移动子载板的钩取件的数量,简化了真空镀膜腔室的结构。 |
