亚纳米级高精度写场拼接光刻机系统
基本信息
| 申请号 | CN202021078739.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212873186U | 公开（公告）日 | 2021-04-02 |
| 申请公布号 | CN212873186U | 申请公布日 | 2021-04-02 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 周向前;伊沃·朗格诺 | 申请（专利权）人 | 百及纳米科技（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 广州市一新专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 王德祥 |
| 地址 | 201210上海市浦东新区纳贤路60号5号楼5102室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种亚纳米级高精度写场拼接光刻机系统，包括机体里的台面，台面上方设有电子显微镜、至少一台纳米触点传感器及晶圆移动工作台；电子显微镜上设有电子束镜筒；晶圆工作台上设有用于拖动其前、后和/或左、右和/或上、下移动以及角度变化的数控驱动装置。通过对曝光前后，晶园移动前后，写场的位置坐标比较，计算出拼接的偏差，以负反馈控制方式进行晶圆的高精度光刻拼接，克服了现有非原位、远离写场、盲人式开环光刻拼接技术受晶园工作台机械运动精度、电子束长时间漂移的影响而拼接精度差的缺陷，突破了现有技术严重依赖光刻机系统晶园工作台数控精度的瓶颈，提供了一种新型的亚纳米级高精度写场拼接光刻机系统。 |
