光学器件表面清洁装置及扫描检查系统
基本信息
| 申请号 | CN201920671159.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210023081U | 公开（公告）日 | 2020-02-07 |
| 申请公布号 | CN210023081U | 申请公布日 | 2020-02-07 |
| 分类号 | B08B5/02;G01N21/94 | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 李柯;许艳伟;孟德芳;叶立超;喻卫丰;胡煜;宗春光;孙尚民 | 申请（专利权）人 | 同方威视科技（北京）有限公司 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张文超;颜镝 |
| 地址 | 100084 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种光学器件表面清洁装置及扫描检查系统，其中，光学器件表面清洁装置包括：吹气部件(5)，导流面(53)吹气部件(5)上设有吹气口(53)，导流面(53)吹气口(53)朝向光学器件的待清洁表面(6)设置；以及气源组件，被配置为向导流面(53)吹气部件(5)提供压缩气体，以使压缩气体通过导流面(53)吹气口(53)吹向导流面(53)待清洁表面(6)进行除污。此种清洁装置利用吹出压缩空气的方式，能够对光学器件表面进行自动清洁，可降低光学器件的维护成本和维护难度，并降低光学器件的误检测率，从而提升设备的使用效率，提升客户对设备的使用体验。 |
