一种晶圆快速热处理机台的监控方法
基本信息
| 申请号 | CN201911401776.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111106029A | 公开（公告）日 | 2020-05-05 |
| 申请公布号 | CN111106029A | 申请公布日 | 2020-05-05 |
| 分类号 | H01L21/66;H01L21/324;H01L21/265 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 张二雄;黄泽军 | 申请（专利权）人 | 深圳市锐骏半导体股份有限公司 |
| 代理机构 | 深圳众邦专利代理有限公司 | 代理人 | 张晓会 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区高新中一道2号长园新材料港8栋4楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种晶圆快速热处理机台的监控方法，对光硅片进行离子注入，形成监控片，且离子注入的杂质在不被完全激活时，进行监控片的电阻值测试；在制作监控片时，对清洗后的光硅片进行处理没有时间限制，同时不需要保存于氮气柜中，简化了监控片制作步骤及技术要求，本发明在简化监控片制作步骤及技术要求的同时，兼顾监控金属前和金属后500~1000℃的温度范围，起到有效监控的目的；防止因机台温度的波动和漂移导致晶圆加工工艺异常及晶圆报废，具有良好的市场应用价值。 |
