大尺寸高熵高纯度难熔金属合金溅射靶材及其制备工艺
基本信息
| 申请号 | CN202210072452.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114525485A | 公开（公告）日 | 2022-05-24 |
| 申请公布号 | CN114525485A | 申请公布日 | 2022-05-24 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C22C30/00（2006.01）I;C23C16/08（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 徐从康;马赛;贺涛;陈箫箫 | 申请（专利权）人 | 亚芯半导体材料（江苏）有限公司 |
| 代理机构 | 常州市权航专利代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 213000江苏省常州市天宁区福阳路61号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于高熵难熔金属合金溅射靶材技术领域，具体涉及一种大尺寸高熵高纯度难熔金属合金溅射靶材及其制备工艺，包括以下步骤：步骤S1，将金属粉与用氟和/或氯元素气体反应，制备出卤化物前驱体；步骤S2，对卤化物前驱体进行提纯，得到高纯度卤化物；步骤S3，将高纯度卤化物采用化学气相沉积法用还原气体还原成高纯金属；步骤S4，将高纯金属沉积到基体材料上，一步法生产出大尺寸高熵高纯度难熔金属合金溅射靶材；本发明制备的大尺寸高熵高纯度难熔金属合金溅射靶材，具有工序简单、尺寸大、纯度高、密度高、一致性好等优势。 |
