高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统
基本信息
| 申请号 | CN202110553332.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113275589A | 公开（公告）日 | 2021-08-20 |
| 申请公布号 | CN113275589A | 申请公布日 | 2021-08-20 |
| 分类号 | B22F9/30;B22F1/00;C23C14/34;C23C16/14 | 分类 | 铸造；粉末冶金; |
| 发明人 | 陈箫箫;林胜乐;高利 | 申请（专利权）人 | 亚芯半导体材料（江苏）有限公司 |
| 代理机构 | 常州市权航专利代理有限公司 | 代理人 | 赵慧 |
| 地址 | 213000 江苏省常州市天宁区青洋北路143号创业服务中心内 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于溅射靶材技术领域，具体涉及一种高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统。其中，所述高纯度钛粉的制备方法，采用气相沉积法，将钛的卤化物加热分解，以制得高纯度钛粉。本发明通过采用气相沉积的方法制得高纯度钛粉，并将该高纯度钛粉直接用于钨钛溅射靶材的制备，不仅提高了钨钛溅射靶材的纯度，还避免了钛粉与氧反应导致氧含量升高；本发明制得的钨钛溅射靶材的纯度不低于99.999％，氧含量不超过300ppm，纯度和氧含量远高于目前市场上的产品，完全满足电子行业的需求。 |
