一种精密真空镀膜系统
基本信息
| 申请号 | CN202022197303.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213327812U | 公开（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申请公布号 | CN213327812U | 申请公布日 | 2021-06-01 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 陈箫箫 | 申请（专利权）人 | 亚芯半导体材料（江苏）有限公司 |
| 代理机构 | 常州市权航专利代理有限公司 | 代理人 | 赵慧 |
| 地址 | 213000江苏省常州市天宁区青洋北路143号创业服务中心内 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型具体涉及一种精密真空镀膜系统，本精密真空镀膜系统包括：镀膜环境控制装置，用于输出氩气；和镀膜装置，连接所述镀膜环境控制装置，用于真空中产生电场电离氩气产生氩离子轰击靶材表面，使靶材发生溅射；传动装置，用于接收溅射出的靶材以对物料进行镀膜，并夹持物料转动，以使溅射出的靶材覆盖物料表面；以及监测控制装置，连接所述镀膜装置，用于采集镀膜装置工作参数，并根据镀膜装置工作参数控制镀膜环境控制装置的氩气输出量；本实用新型通过电场电离氩气产生氩离子轰击靶材表面，使靶材溅射至物料表面进行镀膜，实现磁控溅射为核心的光电镀膜，能够制备特殊光电特性的薄膜产品，实现可批量化制造。 |
