一种磁控溅射设备中的镀膜结构
基本信息
| 申请号 | CN201921086612.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210560705U | 公开（公告）日 | 2020-05-19 |
| 申请公布号 | CN210560705U | 申请公布日 | 2020-05-19 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/56 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 夏熙;陈培专;李仁龙;魏昌华;高翔 | 申请（专利权）人 | 绵阳皓华光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 绵阳金能移动能源有限公司 |
| 地址 | 621000 四川省绵阳市涪城区凤凰中路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种磁控溅射设备中的镀膜结构，包括：一腔板，其内开设有一半密封U型腔，半密封U型腔内均布设置有多个第一隔板，两两第一隔板之间构成一独立的镀膜空间，镀膜空间的一侧设置有一安装板，其上开设有两第一固定孔，腔板上开设的有两与第一固定孔相配合的第二固定孔，第一固定孔与第二固定孔之间设置有镀膜靶材；一门板，其上可转动设置有一镀膜辊，镀膜辊的周向上套设有一待镀膜基板，门板上还固定设置有一半圆型架，半圆型架与所述镀膜辊间隙配合，半圆型架上均布设置有多个与第一隔板相配合的第二隔板；采用本实用新型的镀膜结构，能够提高各镀膜空间内的气密性，防止窜气，减小摩擦阻力，提高镀膜质量与效果。 |
