一种金属有机物化学气相沉积设备的水冷顶盖

基本信息

申请号 CN201020268455.9 申请日 -
公开(公告)号 CN202116642U 公开(公告)日 2012-01-18
申请公布号 CN202116642U 申请公布日 2012-01-18
分类号 C23C16/18(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 李可;李刚 申请(专利权)人 上海永胜半导体设备有限公司
代理机构 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 代理人 上海蓝宝光电材料有限公司
地址 201616 上海市松江区文俊路2号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及金属有机物化学气相沉积(MOCVD)设备中一种金属有机物化学气相沉积设备的水冷顶盖。其结构特点是,水冷顶盖由顶盖体上板(1)、顶盖体下板(2)、进水接头(3)、出水接头(4)、连接块(5)、密封沟槽(6)、锁紧沟槽(7)和S形水冷沟槽(8)组成。顶盖体上板开有进出水孔,顶盖体下板开有水槽,焊为一体形成密封水路。进出水管与冷却水系统连接,由冷却水系统提供循环的恒温冷水对顶盖进行冷却。本实用新型为多路水冷槽径向或圆周向分布,配合流量计、温控器的情况下可实现顶盖温度的分区控制。单条水路可实现径向方向上温度的控制,不同水路之间可实现不同区域的温度控制。