一种金属有机物化学气相沉积设备的载盘支撑
基本信息
| 申请号 | CN201010619354.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102534560A | 公开（公告）日 | 2012-07-04 |
| 申请公布号 | CN102534560A | 申请公布日 | 2012-07-04 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李刚 | 申请（专利权）人 | 上海永胜半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201616 上海市松江区文俊路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及金属有机物化学气相沉积(MOCVD)设备中的一种载盘支撑装置。它包括腔体底盘(1)、腔壁(2)、多层载盘支撑(3)、支撑垫块(4)、支撑连接(5)、载盘(6)、加热器(7)，特征是多层载盘支撑(3)安装在腔体底盘(1)上，通过放置在多层载盘支撑(3)上部的支撑垫块(4)保证整个支撑面的平面度。多层载盘支撑(3)的每层均支撑受力，降低了对每层支撑的强度(厚度)的要求。工作过程中，腔体内部从常温到1000℃不断来回变化的过程中，厚度较薄的载盘支撑产生的形变也较小，也保证了工作的稳定性和安全性。而多层载盘支撑(3)也起到了隔热作用，使其内侧加热器的热量不容易辐射到腔壁(2)上。 |
