一种高硼掺杂P型衬底TVS器件外延片
基本信息
申请号 | CN201821665467.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN208722885U | 公开(公告)日 | 2019-04-09 |
申请公布号 | CN208722885U | 申请公布日 | 2019-04-09 |
分类号 | H01L29/06(2006.01)I; H01L29/861(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 朱军; 杨敏红; 单慧; 刘韵吉 | 申请(专利权)人 | 桑德斯微电子器件(南京)有限公司 |
代理机构 | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) | 代理人 | 陈建和 |
地址 | 211113 江苏省南京市江宁经济技术开发区纬七路 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种高硼掺杂P型衬底TVS器件的外延片,在TVS器件外延片的P++衬底上设有氧化层加多晶硅层作为外延片衬底背面的密封材料,氧化层为二氧化硅,在P++衬底材料上进行热氧化生成,二氧化硅层的厚度在0.1‑1.5微米;在二氧化硅层表面设有多晶硅层,多晶硅的厚度在0.1‑2.0微米。 |
