一种高硼掺杂P型衬底TVS器件外延片

基本信息

申请号 CN201821665467.8 申请日 -
公开(公告)号 CN208722885U 公开(公告)日 2019-04-09
申请公布号 CN208722885U 申请公布日 2019-04-09
分类号 H01L29/06(2006.01)I; H01L29/861(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 朱军; 杨敏红; 单慧; 刘韵吉 申请(专利权)人 桑德斯微电子器件(南京)有限公司
代理机构 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 代理人 陈建和
地址 211113 江苏省南京市江宁经济技术开发区纬七路
法律状态 -

摘要

摘要 一种高硼掺杂P型衬底TVS器件的外延片,在TVS器件外延片的P++衬底上设有氧化层加多晶硅层作为外延片衬底背面的密封材料,氧化层为二氧化硅,在P++衬底材料上进行热氧化生成,二氧化硅层的厚度在0.1‑1.5微米;在二氧化硅层表面设有多晶硅层,多晶硅的厚度在0.1‑2.0微米。