一种含浸机构
基本信息
| 申请号 | CN202121686853.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215744450U | 公开（公告）日 | 2022-02-08 |
| 申请公布号 | CN215744450U | 申请公布日 | 2022-02-08 |
| 分类号 | B05C3/09（2006.01）I;B05C13/02（2006.01）I;B05C11/115（2006.01）I | 分类 | 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕; |
| 发明人 | 张鑫 | 申请（专利权）人 | 江苏瑞德磁性材料有限公司 |
| 代理机构 | 南京新慧恒诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 房鑫磊 |
| 地址 | 211700江苏省淮安市盱眙经济开发区玉兰大道与金源路交叉口东北角 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种含浸机构，包括支撑板，支撑板的顶部设置有含浸槽，含浸槽的两侧上方对称设置有两个支板，在两个支板上对称设置有两个升降装置，在两个升降装置的顶部设置有盖板，盖板的顶部中心位置处设置有执行轴竖直延伸至盖板下方的伸缩装置，在伸缩装置的执行轴末端设置有开口向下设置的卡框，卡框的底部开口内侧对称设置有卡板，在卡板上方的卡框内放置有盛有磁芯的网孔槽，在位于含浸槽正上方的盖板上还设置有真空接口和压力表，真空接口与外部真空设备连通。本实用新型能有效提高含浸槽与盖板之间的密封性，保证了真空度继而提高了含浸效果。 |
