一种磁流体一体式源挡板开闭机构
基本信息
| 申请号 | CN202023296567.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214300326U | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN214300326U | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | C23C14/30（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 薛蒙晓 | 申请（专利权）人 | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州彰尚知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 曹恒涛 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市苏州工业园区东旺路45号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 为了解决如何对淀积的继续控制成了当下需要解决的问题，本实用新型提出一种磁流体一体式源挡板开闭机构，对淀积的控制通过切换遮板的位置来完成，因而，蒸发在淀积开始之前将遮板移至坩埚上放，当加热细丝进行稳定的电子发射和蒸发时移除遮板，遮板的轴杆采用磁流体，轴杆位于连接在防着板上，轴杆的一端与遮板连接，另外一端通过联轴器与气缸连接，磁流体可以增加磁流体与防着板处的密封性，遮板和磁流体的配合可以防止源材料扩散至蒸镀机内部的其他部件上造成源材料的浪费，结构简单，自动化程度高。 |
