掩膜版脱膜去胶方法、制作方法及掩膜版
基本信息
| 申请号 | CN202110326898.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113176703A | 公开（公告）日 | 2021-07-27 |
| 申请公布号 | CN113176703A | 申请公布日 | 2021-07-27 |
| 分类号 | G03F1/82 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 黄国勇;司继伟;杜武兵 | 申请（专利权）人 | 深圳市路维光电股份有限公司 |
| 代理机构 | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 黄广龙 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区朗山路16号华瀚创新园办公楼D座102 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了一种掩膜版脱膜去胶方法、制作方法及掩膜版，属于掩膜版制作技术领域。掩膜版脱膜去胶方法，包括：对掩膜版半成品进行曝光，使掩膜版半成品上的残留光阻层进行光耦合反应；将进行光耦合反应后的掩膜版半成品与显影液进行反应，去除掩膜版半成品上的残留光阻层。本申请的掩膜版脱膜去胶方法，对掩膜版半成品进行曝光，使掩膜版半成品易于与显影液反应，摒弃了用H2SO4与H2O2混合进行脱膜的方法，不会对掩膜版造成损伤，延长了掩膜版的使用寿命，并且人员操作安全；不需使用自动清洗机进行费时费力的清洗，工序耗时短，生产效率高，操作方便。 |
