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一种TFT‑LCD屏制造过程中光刻胶的去除方法

基本信息

申请号	CN201710851757.5	申请日	-
公开（公告）号	CN107885048A	公开（公告）日	2018-04-06
申请公布号	CN107885048A	申请公布日	2018-04-06
分类号	G03F7/42;H01L27/12	分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
发明人	白航空	申请（专利权）人	长沙惠科金扬科技有限责任公司
代理机构	-	代理人	-
地址	230000 安徽省合肥市新站区九顶山路与奎河路交口东北角
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种TFT‑LCD屏制造过程中光刻胶的去除方法，包括以下步骤：在材料层的特定部分上方形成光刻胶图案以暴露出离子注入区，利用光学线宽测量仪器测量高电流离子注入后的掺杂的光刻胶层的厚度，基于离子注入前的光刻胶层的厚度获得未掺杂的光刻胶层的厚度，建立测量高电流离子注入后的光学线宽测量数据库；针对所述掺杂的光刻胶层的厚度和未掺杂的光刻胶层的厚度，分别设置刻蚀工艺的工艺参数；利用先进制程控制系统执行所述刻蚀工艺，在工艺过程中利用先进制程控制系统实施反馈，在第一温度下使用包含二酰亚胺（N2H2）的气体混合物等离子体移除所述光刻胶层；在高于所述第一温度的第二温度下，使用所述N2H2和O2的等离子体移除所述光刻胶层。