一种应用反转铜箔材料的覆铜板

基本信息

申请号 CN201821950982.0 申请日 -
公开(公告)号 CN209693186U 公开(公告)日 2019-11-26
申请公布号 CN209693186U 申请公布日 2019-11-26
分类号 H05K3/02(2006.01) 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 张伟连 申请(专利权)人 开平依利安达电子有限公司
代理机构 广州嘉权专利商标事务所有限公司 代理人 陈均钦
地址 529235 广东省江门市开平水口镇寺前西路318号-01幢
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种应用反转铜箔材料的覆铜板,包括反转铜箔材料和与之结合的蚀刻阻剂,所述反转铜箔材料包括绝缘层与铜质层,所述绝缘层置于中间,所述铜质层覆在绝缘层的两侧,且铜质层一侧为光面,另一侧为粗糙度大于光面的毛面,所述光面与绝缘层结合,所述毛面朝向外侧并与蚀刻阻剂结合。本实用新型的有效果是:通过该反转铜箔材料,可大幅提高铜面与蚀刻阻剂的结合力,从而改善内层线路开路、缺口,使缺陷下降50%。