一种具有内嵌隔离环的高维持电压可控硅

基本信息

申请号 CN201921418257.3 申请日 -
公开(公告)号 CN210092089U 公开(公告)日 2020-02-18
申请公布号 CN210092089U 申请公布日 2020-02-18
分类号 H01L29/06;H01L29/74 分类 基本电气元件;
发明人 乔明;齐钊;邓琪 申请(专利权)人 成都矽能科技有限公司
代理机构 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 代理人 葛启函
地址 610093 四川省成都市自由贸易试验区成都高新区天府大道中段1366号2栋9楼12-18号
法律状态 -

摘要

摘要 一种具有内嵌隔离环的高维持电压可控硅,包括P型衬底,P型衬底上表面两侧设置的N阱区和P阱区,N阱区内表面设置的阳极,P阱区内表面设置的阴极,设置在P型衬底上表面且两端设置在N阱区和P阱区内部的第三N+区,N型隔离环和/或P型隔离环。其中N型隔离环包括设置在N阱区下方的N埋层,设置在N阱区远离P阱区的一侧且与N阱区和N埋层接触的第一N型深注入层,设置在N阱区靠近P阱区的一侧且与N阱区和N埋层接触的第二N型深注入层;P型隔离环包括设置在P阱区下方的P埋层,设置在P阱区远离N阱区的一侧且与P阱区和P埋层接触的第一P型深注入层,设置在P阱区靠近N阱区的一侧且与P阱区和P埋层接触的第二P型深注入层。