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基于指标预报和解相似度分析的光刻工序动态调度方法

基本信息

申请号 CN201410805103.5 申请日 -
公开（公告）号 CN104536412B 公开（公告）日 2017-02-22
申请公布号 CN104536412B 申请公布日 2017-02-22
分类号 G05B19/418(2006.01)I 分类 控制；调节;
发明人 刘民;郝井华 申请（专利权）人 正大业恒生物科技（上海）有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 100084 北京市海淀区清华园
法律状态 -

摘要

摘要 基于指标预报和解相似度分析的光刻工序动态调度方法，属于先进制造、自动化和信息领域，其特征在于，针对半导体生产线光刻工序动态调度问题，提出一种动态调度方法。该方法首先将光刻工序动态调度问题分解为设备选择调度子问题和工件排序调度子问题，并在线建立工件排序调度子问题的性能指标预报模型，然后，利用基于解相似度分析的差分进化算法求解原调度问题。在差分进化算法中，上述工件排序调度子问题性能指标预报模型用于对设备选择调度子问题的解进行全局调度性能的快速粗评价。在对调度解的评价过程中，本发明采用精确评价和粗评价相结合的方式进行差分进化算法中解的性能评价；使用该调度方法可显著提升光刻工序生产调度的效率和效果。