基于商空间和知识源融合的光刻工序套刻指标预报方法
基本信息
| 申请号 | CN201410805067.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105223782B | 公开（公告）日 | 2017-10-24 |
| 申请公布号 | CN105223782B | 申请公布日 | 2017-10-24 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 刘民;王志超;董明宇;郝井华 | 申请（专利权）人 | 正大业恒生物科技（上海）有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100084 北京市海淀区清华园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 基于商空间和知识源融合的光刻工序套刻指标预报方法，属于先进制造、自动化和信息领域，其特征在于，针对微电子生产线中光刻设备套刻不准导致产品返工的问题，提出一种基于商空间和知识源融合的光刻工序套刻指标预报方法。首先，将晶圆的多个套刻指标的历史数据作为不同的知识源；并将其融合得到一个待优化的知识源融合模型，该模型的输出为上述多个套刻指标；然后，将上述模型进行极分解得到三个低秩因子，并对每一个低秩因子进行对称变换得到等价类因子；最后，在商空间使用交替方向最优化策略对每一个等价类因子进行优化，通过上述对知识源融合模型的优化过程可实现对多个套刻指标的协同建模。本发明方法可用于对多个套刻指标进行联合预报。 |
