一种清洗抛光垫的装置
基本信息
| 申请号 | CN202123335737.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216883385U | 公开（公告）日 | 2022-07-05 |
| 申请公布号 | CN216883385U | 申请公布日 | 2022-07-05 |
| 分类号 | B24B53/017（2012.01）I;B24B37/08（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 崔世勋 | 申请（专利权）人 | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 代理机构 | 西安维英格知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 710065陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种清洗抛光垫的装置；该装置包括：高压清洗臂，所述高压清洗臂具有固定端和活动端；沿所述高压清洗臂的活动端至固定端的方向设置多个能够同时朝向所述双面抛光设备的上、下抛光垫喷射高压去离子水DIW的高压清洗喷头对；其中，所述高压清洗臂的活动端可按照与所述双面抛光设备的上、下定盘垂直的方向进入上下定盘之间的空间；所述多个高压清洗喷头对均同时朝所述双面抛光设备的上、下抛光垫喷射高压DIW，且所述多个高压清洗喷头对的总的清洗区域范围能够覆盖所述上、下抛光垫的径向半径区域；以及，每个高压清洗喷头对的清洗区域范围与相邻的高压清洗喷头对的清洗区域范围有重合部分。 |
