气体反应装置
基本信息
| 申请号 | CN202022911811.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214736074U | 公开（公告）日 | 2021-11-16 |
| 申请公布号 | CN214736074U | 申请公布日 | 2021-11-16 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 吴铭钦;刘峰 | 申请（专利权）人 | 苏州雨竹机电有限公司 |
| 代理机构 | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 李林 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏虹中路39号2幢2楼西侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型为一种气体反应装置，其应用于面下型（Face Down）的化学气相沉积反应技术。气体反应装置包括一反应腔以及一基板承载装置，基板承载装置设置在反应腔内的上部。气体反应装置特征在于，基板承载装置与反应腔之间形成一快速气流通道，且快速气流通道的高度大于0毫米且小于或等于5毫米。本实用新型将快速气流通道的高度缩减至提供5毫米，以提升快速气流通道内气体流通的速率，减少基板上杂质沉降以及气体的消耗。 |
