薄膜沉积旋转盘系统

基本信息

申请号 CN202022409947.1 申请日 -
公开(公告)号 CN214736079U 公开(公告)日 2021-11-16
申请公布号 CN214736079U 申请公布日 2021-11-16
分类号 C23C16/458(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 吴铭钦;刘峰 申请(专利权)人 苏州雨竹机电有限公司
代理机构 北京市万慧达律师事务所 代理人 刘艳丽
地址 215000江苏省苏州市自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏虹中路39号2幢2楼西侧
法律状态 -

摘要

摘要 本公开为一种薄膜沉积旋转盘系统,包括机台,机台上设有至少一晶圆凹座,其内设有一碟盘,且碟盘上设有晶圆容置槽。碟盘中央还穿设有晶圆升降装置,其包括一顶柱穿设在一套管内。机台上还设有一第一输气通道,以输送气体至套管的输气穿孔中,令套管内的顶柱根据气体的流量大小升降,以将晶圆容置槽上的晶圆顶出。机台上还设有一排气通道,当顶柱位于套管内的高度超过排气穿孔时,气体可由套管上的排气穿孔排出至排气通道,以调节顶柱的升降高度,等到流量与顶柱的高度平衡后,机械手臂即可进入夹取晶圆。本公开有助于机械手臂取放晶圆,有效因应自动化生产的需求,提升生产效率。